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发布时间: 2022-05-14 | 有 效 期: 999 |
普通真空镀膜时,蒸发料粒子大约只以一个电子伏特的能量向工件表面蒸镀,在工件表面与镀层之间,形成的界面扩散深度通常仅为几百个埃(10000埃=1微米=0.0001厘米)。而离子镀时,蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能。当其高速轰击工件时,不但沉积速度快,而且能够穿透工件表面,形成一种注入基体很深的扩散层,离子镀的界面扩散深度可达四至五微米,也就是说比普通真空镀膜的扩散深度要深几十倍,甚至上百倍,佛山高反射反光杯,因而彼此粘附得特别牢。
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物理l气相沉积(真空镀膜)基本方法 :
1、从沉积粒子能量(中性原子)来看,真空蒸镀为0.1-1eV,高反射反光杯厂家价格,溅射为1-10eV,离子镀为0.1-1eV(此外还有高能中性原子)。
2、从沉积速率来看,真空蒸镀为0.1-70μm/min,溅射为0.01-0.05μm/min(磁控溅射接近于真空蒸镀),离子镀为0.1-50μm/min。
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